plasam清潔設備的使用始于二十世紀初。隨著高新技術產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，其運用越來越廣泛。目前，它在許多高新技術領域處于關鍵技術的地位。plasam清洗設備對工業(yè)經(jīng)濟和人類文明的干擾最大，是電子信息產(chǎn)業(yè)，尤其是半導體產(chǎn)業(yè)和光電產(chǎn)業(yè)的首選。plasam清洗設備已運用于制造各種電子元件。可以肯定的是，沒有plasam清洗設備技術，就沒有今天如此發(fā)達的電子、信息和通信行業(yè)。接下來，分析等離子清洗在ITO領域的運用特點。  

       銦錫氧化物(ITO)是1種重要的透明半導體材料，它一方面有著比較穩(wěn)定的化學性質(zhì)，還有著良好的透光性和導電性，因此在光電工業(yè)中被廣泛應用。ITO在沉積過程中形成一個高度簡單的n型半導體。在Sn摻雜的情況下，所得到的費米能級Er位于導帶底EC以上，載流子濃度高，電阻率低。此外，ITO有著較寬的光學禁帶，因而可見光和近紅外光的透過率較高。ITO薄膜的上述特性使其在光電器件中得到了廣泛的應用，如光伏電池、電致發(fā)光、液晶顯示、傳感器和激光。
       ITO知道ITO是1種非化學計量化合物，沉積條件、后處理工藝和清洗方法會明顯干擾其表面層性能。其中，表面形貌及化學成分分析干擾了ITO膜與有機層界面特性，從而影響了器件的光電性能。因此，在制造設備之前，商用ITO導電玻璃通常需要用適當?shù)姆椒ㄌ幚鞩TO膜表面層。改善了器件的表面層電性能和表面形貌，改善了器件的性能。迄今為止，ITO表面層改性的方法可分為干法和濕法兩種。在這些方法中，干法處理一般采用各種電離氣體等離子體來清洗ITO表面，去除其表面層污染，改善表面形態(tài)；濕法處理是通過有機溶劑在ITO表面層間結合新的活性基團來達到改性表面層的目的。
       ITO陽極通過氧plasam清洗設備進行表面層改性。從處理前后ITO膜化學成分分析、晶體結構、透光率和方塊電阻的變化可以看出，未經(jīng)處理的ITO表面層含有碳相關殘留污染物；plasam清洗設備后，峰值強度明顯降低，說明等離子體處理可以有效去除ITO表面層的有機污染物。plasam清洗設備一方面降低了ITO表面層的碳濃度，而且提高了ITO表面層的氧濃度。從而改善ITO表面層的化學成分分析，這對提高ITO的功能和設備性能非常重要。而且等離子體表面層改性有利于提高有機太陽能電池的能量轉(zhuǎn)換效率和設備的光伏性能，對提高有機光伏電池的短路電流、填充因子和能量轉(zhuǎn)換效率起著重要作用。